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真空热处理炉 小型1200℃主要用途,参数

作者: 发布时间:2017-04-25 浏览次数:2087
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主要用途:适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理,是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备。

此款真空热处理炉,连接有真空泵,可抽真空通惰性气体等,专门设计用于对物料在真空状态并通一定气氛(如惰性气体等)环境下进行烧结,***高温度可以达到1800℃。此款真空热处理炉采用氧化铝纤维作为炉膛材料,以硅钼棒或者硅碳棒为加热元件,炉体设计是炉膛具有较好的真空密封性,炉体上安装有气体控制系统。


真空热处理炉主要用途:高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、 CVD 实验、真空退火用的理想产品工矿企业理想的实验和生产设备。

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真空热处理炉详细参数;

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产品型号

XGM-GAZ-1

炉  膛

进口高纯氧化铝多晶纤维固化炉膛,保温性能好。

炉管尺寸

Φ40/60/80/100/150/200mm

加热元件

进口硅碳棒

测温元件

S分度,单铂铑

控温方式

温度控制系统采用人工智能调节技术,具有PID调节、自整定功能,30段升降温程序

密封方式

不锈钢法兰挤压密封

标配真空度

-0.1Mpa(如需更高真空可选购不同真空系统)

工作温度

≤1350℃

***高温度

1450℃

恒温精度

±1℃

恒温区长度

200/300/400/500/600/800/1000mm(可根据客户要求定制)

建议升温速度

10-30℃/min

额定功率

6KW

工作电源

AC220V/380V    50HZ/60HZ

标准配件

密封法兰1套,“O”型圈4个,管堵4个,高温手套1副,坩埚钩1把

可选购附件

炉架,供混气系统,低、中、高真空系统,各种刚玉坩埚,刚玉管,计算机控制软件,无纸记录仪等。


温度,炉管尺寸及炉管高温区长度均可根据客户要求定制!


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